武汉光谷实验室研发高性能量子点光刻胶，有望应用于 micro-LED
作者:国际新闻 来源:国际新闻 浏览: 【大 中 小】 发布时间:2024-10-18 20:20:56 评论数:
ewiqmvl">IT之家 8 月 13 日消息，武汉望武汉光谷实验室宣布与华中科技大学等研究团队合作研发出高性能量子点光刻胶（QD-PR），光谷光刻其蓝光转换效率达到 44.6%（绿色）和 45.0%（红色），实验室研光刻精度达到 1 μm，发高各项性能指标为行业领先水平。量点▲高性能量子点光刻胶据介绍，用于目前主流的武汉望 RGB 三色 micro-LED 全彩技术，存在巨量转移次数多、光谷光刻成本高昂、实验室研驱动控制电路复杂、发高不同颜色光衰不同等问题，量点并且由于 micro-LED 尺寸减小，用于红色 LED 的武汉望发光效率急剧下降。而使用单色蓝光 micro-LED 激发绿色和红色荧光材料实现全彩化显示可以规避上述问题。光谷光刻▲量子点光刻胶的实验室研性能指标基于高性能的量子点光刻胶，研究团队实现了高精度的量子点像素。▲量子点光刻像素IT之家获悉，这些量子点色转换像素还表现出优异的稳定性，在空气中 75℃加热 120 小时后仍能保留原始发光性能的 92.5%（红色）和 93.4%（绿色）。通过红绿量子点套刻，配合蓝色面光源，研究团队获得了高精度的基于量子点色转换像素的静态图案。▲量子点色转换像素构成的静态图案